اکسید زیر کونیوم (ZrO2) به واسطه خواص برجسته ای نظیر سختی بالا، مقاومت به خوردگی و سایش مناسب و مقاومت شیمیایی قابل قبول در هر دو حالت کپه ای و لایه نازک از مواد پرکاربرد در صنعت و فناوری است. این تحقیق به مطالعه نانو ساختار، ترکیب شیمیایی و خواص مکانیکی لایه های نازک اکسید زیرکونیوم تهیه شده به روش کندوپاش واکنشی مغناطیسی DC (به ضخامت nm 300)بر روی زیرلایه های سیلیکون در فشارهای مختلف گاز اکسیژن (sccm 15-3) می پردازد. نتایج نشان داد که افزایش فشار گازاکسیژن تا sccm 9 سبب بهبود سختی نمونه ها شده در حالیکه پس از آن، افزایش فشار گاز اکسیژن اثر معکوس در سختی نمونه ها را دارد. تحلیل های ساختاری نشان داد که این رفتار به واسطه تغییرات در آهنگ انباشت، ناشی از تغییرات میزان اکسیژن در محفظه به هنگام لایه نشانی بود. بررسی های مکانیکی همچنین نشان داد که مدول الاستیک لایه ها با افزایش فشار گاز اکسیژن رابطه ای عکس دارد. مطالعه ترکیب شیمیایی نمونه ها که با آنالیز EDAX انجام شده ثابت کرد که این رابطه معکوس به خاطر افزایش میزان اکسیژن در ساختار لایه ها است.